• 產(chǎn)品介紹

    氧化層硅片

    熱氧化厚膜以?xún)?yōu)越的表面潔凈度與安定的質(zhì)量獲得全世界最高的市占率。


    熱氧化厚膜以?xún)?yōu)越的表面潔凈度與安定的質(zhì)量獲得全世界最高的市占率。


    產(chǎn)品介紹

    “氧化層硅片”用途

    Undercladding wafer for AWG

    在數組波導光柵(AWG)里,被稱(chēng)為Under clad層之最下層的SiO2膜對生產(chǎn)良率有著(zhù)非常大的決定性作用。 

    59356d7e14500.jpg

    soi.jpgsoi structured 1.jpg

    應用1.jpgsoi structured 2.jpg

    §保證規格

    項目

    規格

    膜厚

    20um±5%(最大膜厚度)

    面內均一性

    ±0.5%

    面間均一性

    ±0.5%

    折射率(@1550nm)

    1.4458±0.0001


    §標準品一覽

    尺寸

    晶圓厚度

    熱氧化膜厚度

    4inch

    525um 1mm

    15um、20um

    6inch

    625um 675um 1mm

    15um、20um

    8inch

    725um

    15um、20um

    12inch

    775um

    15um


    其他晶圓尺寸以及膜厚依顧客需求定制(厚度范圍 :0.1-30μm)

    §折射率面內分布表面粗度數據

    圖片1.png    


    §無(wú)塵室

    未標題-1.jpg      

    “氧化層硅片”用途

    Undercladding wafer for AWG

    在數組波導光柵(AWG)里,被稱(chēng)為Under clad層之最下層的SiO2膜對生產(chǎn)良率有著(zhù)非常大的決定性作用。 

    59356d7e14500.jpg

    soi.jpgsoi structured 1.jpg

    應用1.jpgsoi structured 2.jpg

    §保證規格

    項目

    規格

    膜厚

    20um±5%(最大膜厚度)

    面內均一性

    ±0.5%

    面間均一性

    ±0.5%

    折射率(@1550nm)

    1.4458±0.0001


    §標準品一覽

    尺寸

    晶圓厚度

    熱氧化膜厚度

    4inch

    525um 1mm

    15um、20um

    6inch

    625um 675um 1mm

    15um、20um

    8inch

    725um

    15um、20um

    12inch

    775um

    15um


    其他晶圓尺寸以及膜厚依顧客需求定制(厚度范圍 :0.1-30μm)

    §折射率面內分布表面粗度數據

    圖片1.png    


    §無(wú)塵室

    未標題-1.jpg      

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